電子半導體行業(yè)真空應用知識
電子半導體行業(yè)中的電子加速、光電器件、電子材料、射線管、晶振、繼電器、激光、離子注入設備、離子刻蝕機、化學氣相沉積設備、物理氣相沉積設備、分子束外延設備、集成電路封裝、其他半導體應用設備等。均在蒸發(fā)，濺射，PECVD，真空干法刻蝕，真空吸附，測試設備，機械手，自動化真空清掃等等鍵合工序里所需用真空為（中高真空）；清掃真空（粗真空）；工藝真空（粗真空）。部份還有要求真空泵向被抽空間內(nèi)的返流為零，以保護工件免受污染。下面臺冠真空泵技術(shù)團隊工程師們，給大家分享電子半導體行業(yè)真空應用知識.希望能夠給大家?guī)韼椭?
一、按真空分類
生產(chǎn)真空為（中高真空）
1、生產(chǎn)用真空主要通過高真空使工作空間空氣減少，保持工作空間的潔凈，主要使用的真空泵類型包括干泵（干式螺桿真空泵、爪式泵）和分子泵及其機組。
工藝真空（粗真空）
2、工藝真空主要利用負壓吸附進行工件搬運或夾持，螺桿泵、爪式泵等干泵以及水環(huán)泵、旋片泵、微油螺桿泵。
清掃真空（粗真空）
3、清掃真空主要利用負壓與大氣壓差進行液體或顆粒的清除或輸送，此類應用主要采用水環(huán)泵和多級離心風機。
較早時，油式真空泵是半導體行業(yè)中常用的真空泵種類，最主要的特點是真空度高，能滿足新型行業(yè)的特殊工藝要求，其中又以旋片式真空泵和往復式真空泵為主要代表。因不能抽水蒸氣和可凝性氣體及易腐蝕性氣體等受限，但隨著真空泵的研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)提升，轉(zhuǎn)而采用清潔；安全；耐磨；造價低；維修方便；性能穩(wěn)定；振動小，噪音低等優(yōu)勢的干式真空泵，就滿足半導體行業(yè)工藝要求。
干式真空泵類型
1、圓裂片式，爪式，組合式（羅茨＋爪），螺桿式。這些類型被不同生產(chǎn)廠家所廣泛應用。其中，圓裂片式，爪式和組合式（羅茨＋爪）被稱為多級泵。工作方式大致相同，都是利用多級真空腔對氣體進行反復的壓縮來產(chǎn)生真空。
三、按真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)是由真空泵、PLC程序控制系統(tǒng)、儲氣罐、真空管道、真空閥門、境外過濾總成等組成的成套真空系統(tǒng)。系統(tǒng)廣泛應用于電子半導體業(yè)、光電背光模組、機械加工等行業(yè)。
四、半導體行業(yè)真空系統(tǒng)
電子半導體行業(yè)要求真空系統(tǒng)大體分為三個等級。
1、清潔條件下的抽氣，只抽干空氣或含少許水蒸汽的空氣。
2、中等條件下的抽氣，抽除工藝過程的反應氣體，但無固體顆粒物。
1、防止真空泵溫度過高：
比較容易理解這點，半導體在真空泵的應用中，有害氣體比較多，而無論是干式真空泵還是油封機械泵，泵腔內(nèi)溫度過高，高溫下易燃易爆及有毒氣體就會容易發(fā)生危險。
2、真空泵注意氧氣的濃度：
空氣中的氧如果濃度過高也會發(fā)生燃燒及爆炸風險。所以一些情況下需注意氧的濃度，采用惰性氣體來稀釋，防止?jié)舛冗^高；假設是油封機械泵可能還需要采用一些惰性的與氧相容的真空泵油，并及時更換油濾和油品。
3、半導體真空泵有效稀釋有害氣體的濃度：
半導體易產(chǎn)生前面所說的易燃易爆、有毒的有害氣體。所以半導體真空泵應用中在抽取這些介質(zhì)時就必須防止它們在真空泵內(nèi)或者排氣過程中發(fā)生一些不可控的反應。比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物質(zhì)，在與空氣或氧接觸的時候，會引起燃燒甚至爆炸；氫氣在空氣中的混合比例達到一定程度與溫度時也會發(fā)生燃燒。這些都取決于該物質(zhì)的量以及與環(huán)境的壓力、溫度的關(guān)系。因此半導體真空泵在抽取這些介質(zhì)時，需要用氮氣之類的惰性氣體，在壓縮前即將這些氣體稀釋到當時條件下的安全范圍.
4、定期清洗真空泵及其他附件、過濾、管道，避免超壓：
半導體真空泵應用時，抽取介質(zhì)過程中經(jīng)過反應室與真空泵，其成分可能極為復雜，如SiH4與O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解會形成HCl；假設是油封式機械泵，這些氣體物質(zhì)還可能與泵油發(fā)生化反。這些變化假設形成顆粒、可凝物或者腐蝕性介質(zhì)，就可能堵塞真空泵或管路系統(tǒng)，影響真空泵性能，造成壓力上升或超壓，一點中提到的危險性也更大。所以需要及時的清洗，并在必要的時候設置過濾設備。
以上就是為您提供電子半導體行業(yè)真空應用知識，如您有需要了解更多的真空技術(shù),敬請關(guān)注我們下期精彩分享。
一、按真空分類
生產(chǎn)真空為（中高真空）
1、生產(chǎn)用真空主要通過高真空使工作空間空氣減少，保持工作空間的潔凈，主要使用的真空泵類型包括干泵（干式螺桿真空泵、爪式泵）和分子泵及其機組。
工藝真空（粗真空）
2、工藝真空主要利用負壓吸附進行工件搬運或夾持，螺桿泵、爪式泵等干泵以及水環(huán)泵、旋片泵、微油螺桿泵。
清掃真空（粗真空）
3、清掃真空主要利用負壓與大氣壓差進行液體或顆粒的清除或輸送，此類應用主要采用水環(huán)泵和多級離心風機。
較早時，油式真空泵是半導體行業(yè)中常用的真空泵種類，最主要的特點是真空度高，能滿足新型行業(yè)的特殊工藝要求，其中又以旋片式真空泵和往復式真空泵為主要代表。因不能抽水蒸氣和可凝性氣體及易腐蝕性氣體等受限，但隨著真空泵的研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)提升，轉(zhuǎn)而采用清潔；安全；耐磨；造價低；維修方便；性能穩(wěn)定；振動小，噪音低等優(yōu)勢的干式真空泵，就滿足半導體行業(yè)工藝要求。
干式真空泵類型
1、圓裂片式，爪式，組合式（羅茨＋爪），螺桿式。這些類型被不同生產(chǎn)廠家所廣泛應用。其中，圓裂片式，爪式和組合式（羅茨＋爪）被稱為多級泵。工作方式大致相同，都是利用多級真空腔對氣體進行反復的壓縮來產(chǎn)生真空。
三、按真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)是由真空泵、PLC程序控制系統(tǒng)、儲氣罐、真空管道、真空閥門、境外過濾總成等組成的成套真空系統(tǒng)。系統(tǒng)廣泛應用于電子半導體業(yè)、光電背光模組、機械加工等行業(yè)。
四、半導體行業(yè)真空系統(tǒng)
電子半導體行業(yè)要求真空系統(tǒng)大體分為三個等級。
1、清潔條件下的抽氣，只抽干空氣或含少許水蒸汽的空氣。
2、中等條件下的抽氣，抽除工藝過程的反應氣體，但無固體顆粒物。
3、惡劣條件下的抽氣，抽除化學反應物（有毒甚至致癌）及固體顆粒物。
1、防止真空泵溫度過高：
比較容易理解這點，半導體在真空泵的應用中，有害氣體比較多，而無論是干式真空泵還是油封機械泵，泵腔內(nèi)溫度過高，高溫下易燃易爆及有毒氣體就會容易發(fā)生危險。
2、真空泵注意氧氣的濃度：
空氣中的氧如果濃度過高也會發(fā)生燃燒及爆炸風險。所以一些情況下需注意氧的濃度，采用惰性氣體來稀釋，防止?jié)舛冗^高；假設是油封機械泵可能還需要采用一些惰性的與氧相容的真空泵油，并及時更換油濾和油品。
3、半導體真空泵有效稀釋有害氣體的濃度：
半導體易產(chǎn)生前面所說的易燃易爆、有毒的有害氣體。所以半導體真空泵應用中在抽取這些介質(zhì)時就必須防止它們在真空泵內(nèi)或者排氣過程中發(fā)生一些不可控的反應。比如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物質(zhì)，在與空氣或氧接觸的時候，會引起燃燒甚至爆炸；氫氣在空氣中的混合比例達到一定程度與溫度時也會發(fā)生燃燒。這些都取決于該物質(zhì)的量以及與環(huán)境的壓力、溫度的關(guān)系。因此半導體真空泵在抽取這些介質(zhì)時，需要用氮氣之類的惰性氣體，在壓縮前即將這些氣體稀釋到當時條件下的安全范圍.
4、定期清洗真空泵及其他附件、過濾、管道，避免超壓：
半導體真空泵應用時，抽取介質(zhì)過程中經(jīng)過反應室與真空泵，其成分可能極為復雜，如SiH4與O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解會形成HCl；假設是油封式機械泵，這些氣體物質(zhì)還可能與泵油發(fā)生化反。這些變化假設形成顆粒、可凝物或者腐蝕性介質(zhì)，就可能堵塞真空泵或管路系統(tǒng)，影響真空泵性能，造成壓力上升或超壓，一點中提到的危險性也更大。所以需要及時的清洗，并在必要的時候設置過濾設備。
以上就是為您提供電子半導體行業(yè)真空應用知識，如您有需要了解更多的真空技術(shù),敬請關(guān)注我們下期精彩分享。
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